光刻工艺

中国集成电路技术路线图将制定,由张江的这个创新中心担纲重任,但牵头的是它…

作者:张江头条 / 关注公众号:zj-toutiao  发布:2019-10-19


好消息!上海将牵头制定“中国集成电路技术路线图”了,担纲重任的是国家集成电路创新中心。这也意味着中国集成电路发展的“蓝图”即将面世。
今天(10月18日),“2019中国(上海)集成电路创新峰会”在上海科学会堂举行。在上午的“院士圆桌会议”上,中国科学院院士、上海交通大学副校长、上海市科协人工智能专业委员会主任毛军发等五位院士,以及与会领导和专家讨论了“2019中国集成电路技术路线图”(简称“路线图”)。
制定中国集成电路技术路线图有多重要?
集成电路技术路线图有多重要?据悉,美国半导体行业协会自1992年开始编写半导体技术路线图(ITRS路线图),累计发布了9个版本,路线图给出了未来15年集成电路技术演进方案和设想,为国际集成电路产业发展提供了很大的帮助。
此次公布的《中国集成电路技术路线图(草稿)》(简称《路线图》)由集成电路制造技术现状和发展趋势、先进光刻工艺发展趋势等六大部分组成。中国科学院院士、复旦大学校长许宁生表示,上海牵头制定中国集成电路技术路线图是一种尝试,希望借鉴ITRS模式,结合中国IC产业实际,为产业发展提供帮助。
值得注意的是,《路线图》并没有照搬“摩尔定律”的模式,而是关注了在集成电路发展上“弯道超车”的其他路线。这是因为上世纪60年代提出的“摩尔定律”已经逐渐逼近其极限,由于器件尺寸缩小出现的量子效应等挑战,继续“死磕”摩尔定律边际效益并不高,因此降低成本、系统小型化、提升效率成了《路线图》提出的主要目标。《路线图》并非“一家之言”,而是充分考虑了学术界、产业界的意见。峰会现场,中国科学院院士、中国科学院微电子研究所研究员刘明就建议在路线图中写入更多有关新器件、三维集成的内容,得到许宁生的认可。与会专家认为,中国集成电路产业已经有了长足的发展,引领产业进一步发展,现在制定路线图很有必要、正当时。他们还强调,集成电路是一个国际性的产业,梳理出路线图,有助于中国加强与国际产业界的合作。
担纲重任的国家集成电路创新中心有何来头?
2018年7月3日,国家集成电路创新中心在上海揭牌成立。据悉,中心由复旦大学、中芯国际和华虹集团三家单位共同发起,并将逐步吸收更多龙头企业和研究机构,构建开放平台,汇聚高端人才,开展源头创新,打造国家集成电路共性技术研发平台。
国家集成电路创新中心将瞄准集成电路关键共性技术,突出共性技术研发能力、行业服务与成果转化能力,自力更生、攻坚克难,力争早日实现核心技术突破。中心计划在2025年前后,建设成为具有全球影响力的集成电路共性技术创新机构,为制造强国建设装上创新引擎,为上海建设具有全球影响力的科技创新中心贡献力量。
据了解,中心就落在复旦大学张江校区,未来将吸引国内集成电路的龙头企业,共同形成中国集成电路研发的合力。中心主要聚焦5纳米及以下集成电路,聚焦新器件研发、先进仿真和模拟技术、EUV光刻工艺及OPC技术、先进集成工艺等四大共性技术。并且将高校和科研机构的自由探索与集成电路产业对核心技术的需求融合,为产业技术升级、未来大生产线建设提供人才、技术支撑和知识产权保护,支持国产高端芯片在国内制造企业实现生产。
对于路线图发布时间,笔者获悉,国家集成电路创新中心将在广泛征求专家意见、对路线图修订后,再择机进行发布。
而对于企业能否参与到《路线图》的制定之中?在现场这一提议得到了不少人的响应。许宁生表示,事实上,《路线图》中大约有80%的内容参考了来自产业界的意见,这一比例在真正版本的《路线图》问世时会更高。
文章来源:上海证券报“在看”你就点一下


本文作者 :张江头条

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